陶瓷噴涂的化學反應特性

極低壓陶瓷噴涂(VLPPS)工藝在大約100 Pa的壓力范圍內工作。在這種壓力下，等離子體射流與附近大氣的相互作用非常微弱。因此，在離噴嘴出口很遠的地方，等離子體速度幾乎是恒定的。

科普知識：陶瓷噴涂的化學反應特性

此外，在這些低壓下，碰撞頻率顯著降低，均勻自由路徑顯著增加。因此，在低壓力下，等離子體的比熱容大大進步，但密度較低。這些特殊的等離子體特性提供了更大的可能性噴霧薄和致密的陶瓷比擬，傳統(tǒng)工藝運行在5至20千帕之間的壓力范圍。

本文先容了用于固體氧化物燃料電池應用的低厚度<50μm氣密電絕緣涂料的實例。此外，還對鈣鈦礦等導電膜材料的陶瓷噴涂進行了超音速噴涂和陶瓷噴涂的優(yōu)質涂層的討論。

陶瓷噴涂設備流程

先容等離子體被以為是一種多功能流體，由于它具有高能量密度、化學反應性和可變性傳輸特性。因此，陶瓷噴涂已經廣泛用于出產熱障涂層（TBC）和化學反應涂料然而，它有一個非常復雜的題目。極端前提下的含顆粒熱流體場從實驗研究中獲得最佳操縱前提是難題的，計算實驗被考慮是一種有效的等離子體優(yōu)化方法噴涂工藝。顆粒載流子等離子體的特性研究了的變形過程，沖擊熔滴也有報道，近年來陶瓷噴涂過程的數(shù)值模擬從粒子注入到涂層形成報道陶瓷片的形成模型在本研究中，陶瓷噴涂工藝是通過計算實驗進行評價。要做到這一點，集成了三個數(shù)值模型。粒子速度在基板上沖擊之前的溫度，這是最重要的。用于劈裂形成的重要參數(shù)是通過利用含粒子的等離子體流模型。劈裂厚度用陶瓷片計算直徑。形成模型。粒子特性模擬利用粒子載流子等離子體模型和襯底給出了特征。最后，涂層厚度分布通過涂層形成模型進行評價。

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