低壓等離子噴涂(low pressure plasma spraying,簡稱LPPS)又稱真空等離子噴涂(VPS)是將等離子噴涂工藝在低壓保護性氣氛中進行操作,從而獲得成分不受污染,結合強度高,涂層致密的一種工藝方法。從20世紀70年代末、80年代初開始在工業上推廣應用。
低壓等離子噴涂是將等離子噴槍、工件及其運轉機械置于低真空或選定的可控氣氛的密閉室里,在室外控制噴涂過程,通過真空和過濾系統,保持真空室一定的真空度。當等離子射流進入低真空環境,其形態和特性都將發生變化,主要特點如下:

科普知識:低壓等離子噴涂
1. 涂層性能優異
低壓等離子噴涂涂層結合強度高,涂層十分致密,氣孔率極低,無氧化物夾雜,涂層應力小,硬度高,韌性好,具有優異的綜合性能。
2. 沉積速率高
低壓等離子噴涂涂層的質量完全可以與電子束-物理氣相沉積(EB-PVD)涂層相比,但其沉積速度快,為后者的2~3個數量級。例如,在25.6 cm2的透平機葉片上,低壓等離子噴涂CoCrAlY涂層的沉積速率可達到260 μm/min,而物理氣相沉積的沉積速率為4~50μm/min。
3. 操作條件好
真空室中噴涂,高噪聲被隔離,粉塵被密閉處理,操作條件好。
4. 噴涂距離對涂層性能的影響小
由于低壓等離子噴涂時射束很長,飛行粒子處于高熱能和高動能狀態的時間長,因而噴嘴口與基體之間的噴距的一些變化對涂層性能的影響很小,這使得低壓等離子噴涂很適合于噴涂復雜形狀、曲面工件,如噴涂燃氣輪機葉片,可獲得均勻的優質涂層。
5. 基體預熱溫度高
由于真空和惰性氣體保護的雙重作用,工件基體在不發生變形或組織變化的情況下,可以允許較高的預熱溫度。這樣,一是可以使涂層顆粒與基體的溫差減小,減慢涂層的冷卻速度,從而減小熱應力,使涂層不易產生裂紋;二是能使熔融顆粒噴射到工件表面時,能充分地變形、潤濕鋪散、排除氣體,形成致密涂層,使涂層氣孔率低于1%;三是基體預熱溫度升高,使基體表面處于更好的活化狀態,有利于提高涂層與基體的結合強度。
6. 可進行自凈化表面預處理
低壓等離子噴涂前,通過自動控制系統,采用轉移弧引弧,即引弧時將工件基體接電源負極,使電子從工件表面逸出,形成清潔、活化的表面。使工件不需要機械粗化或噴砂處理,就能與噴涂熔滴達到良好的結合性能。
7. 金屬粒子幾乎無氧化
真空室中含氧量低,特別是充入高純度惰性氣體后,含氧量非常低。在低壓室中噴涂的涂層基本不含氧化物夾雜,涂層清潔,使涂層顆粒之間的粘結強度大大提高,涂層致密。因此,低壓等離子噴涂適合噴涂含易氧化組分的高溫合金(如MCrAlY)、易燃燒金屬(Mg、Ti、Li、Na和Zr等)、有毒性金屬(如Be及其合金)以及易氧化的碳化物類金屬陶瓷材料。
8. 粒子速度高
由于真空室的壓力低,等離子氣流的速度可以增加至3~4馬赫。且粉末顆粒在低壓室中的飛行阻力大大減小,所以粉末顆粒的飛行速度高,具有很高的動能。
9. 等離子射流束長,粒子受熱充分
由于真空的作用,等離子射流在真空室中飛行阻力大大減小,從而拉長了等離子射束的長度,從常壓下弧束長度約4~5 cm拉長到40~50 cm,使粉末顆粒在弧束中的停留時間顯著增加,有利于粉末顆粒的充分受熱和熔化,使噴涂顆粒具有較高的熱能。
低壓等離子噴涂的主要缺點如下:
(1)低氣壓等離子射流的加熱效率降低,熱焓值較低,不易噴涂高熔點材料。
(2)工件尺寸受真空室限制。
(3)設備昂貴,一次性投資高。
一臺全自動的低壓等離子噴涂設備售價高達一百多萬美元,因此,它主要用于宇航等尖端工業的關鍵部件噴涂,如燃氣輪機部件、火箭噴管等。
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