真空等離子噴涂的主要缺點
設備昂貴,一次性投資高。一臺全自動的真空等離子噴涂設備售價高達100萬美元,因此,它主要用于宇航等尖端產業的樞紐部件噴涂,如燃氣輪機部件、火箭噴管等。

相關資料:真空等離子噴涂的主要缺點
工件尺寸受真空室限制。
低氣壓等離子射流的加熱效率降低,熱焓值較低,不易噴涂高熔點材料。
本文來源:http://www.moqawmh.com/news01.php?id=1791
設備昂貴,一次性投資高。一臺全自動的真空等離子噴涂設備售價高達100萬美元,因此,它主要用于宇航等尖端產業的樞紐部件噴涂,如燃氣輪機部件、火箭噴管等。

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工件尺寸受真空室限制。
低氣壓等離子射流的加熱效率降低,熱焓值較低,不易噴涂高熔點材料。
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