等離子噴涂-物理氣相沉積

等離子噴涂物理氣相沉積（PS-PVD）是一種基于低壓等離子噴涂技術的新型多功能薄膜和涂層制備技術。因為其獨特的等離子射流特性，可以實現氣-液-固兩相的多相沉積，實現非視線沉積。本文首先先容了海內外PS-PVD等離子體數值模擬和在線檢測技術的研究現狀。其次，討論了PS-PVD柱狀熱障涂層的形成機理，以及PS-PVD柱狀熱障涂層與傳統熱障涂層在熱導率和耐侵蝕性方面的差異。先容了PS-PVD技術在環保涂料制備中的研究進展。最后總結了PS-PVD高溫防護涂料的長處和存在的題目。

相關資料：等離子噴涂-物理氣相沉積

采用等離子噴涂物理氣相沉積（PS-PVD）技術，在5個噴涂間隔內噴涂成團圓的Zr O_2-7wt%Y_2o_3（7ysz）粉末，制備了熱障涂層。采用場發射掃描電子顯微鏡（FE-SEM）和X射線衍射（XRD）分析了五種涂層的顯微結構和相組成。此外，利用OES診斷研究了7YSZ粉末蒸汽濃度隨噴霧間隔的變化規律。最后，先容了氣相沉積涂層的三種不同生長機理，并解釋了射流中粉末狀態和蒸汽濃度對涂層結構的影響。

結果表明：

1、致密結構涂層形成在350 mm和1800 mm的噴霧間距，而典型的PS-PVD柱狀結構涂層形成在650-1250 mm的噴霧間距。

2、噴涂在350 m噴涂間隔的涂層由四方（t）和單斜（m）氧化鋯組成。噴涂間隔大于650 mm時，涂層主要為四方（T′）氧化鋯。

3、由高濃度蒸汽過飽和自發成核和液/固顆粒形成的新核的相互作用形成350 mm的噴霧間距，在650-1250 mm的噴霧間距下，非自發成核主要發生在襯底上的氣相沉積，阿西斯TED由射流中的氣相自發成核；在1800 mm的噴霧間距下，具有氣體超冷凝的顆粒形成涂層。累積的

本文來源：http://www.moqawmh.com/news01.php?id=1001